(не поместилось в оппост)
Опыт ASML
Чхало убежден, что попытка копирования литографа компании ASML не приведет к успеху. Этот вывод относится как к техническим, так и экономическим проблемам, стоящим на пути построения литографа на 13,5 нм, продолжает он.
«В целом, развиваемая ASML концепция привела к огромной стоимости оборудования, — отмечает Чхало. — По разным данным, цена выпускаемых в настоящее время литографов серии NXE:3400C и NXE:3600D превышает 300 миллионов евро, а нового поколения EXE:5000 с разрешением 8 нм в разы больше».
Тем не менее, топ-менеджеры компаний TSMC, Samsung и Intel подтверждают, что, несмотря на все эти затраты, EUV-литография экономически эффективна, отмечается в документе. «Однако надо учитывать, что эта эффективность обусловлена гигантским рынком чипов, занимаемым этими компаниями, по сути, монополистами, — следует далее. — При уменьшении рынка эта эффективность резко упадет. Косвенным подтверждением этого вывода является и то, что, кроме этих гигантов, а также американской Micron Technology и корейской SK Hynix Korea, входящих в 5-топ производителей чипов в мире, такое оборудование больше никто не приобрел и согласно прогнозам ASML на ближайшее будущее и не планирует».
Поэтому Чхало приходит к выводу, что с экономической точки зрения повторять проект ASML для России бессмысленно. Так как при мелкосерийном производстве она может и превысить стоимость спецтехники, для которой этот чип производился.
Технически повторить разработку ASML представляется маловероятным, да и использование подобного оборудования для отечественного рынка чипов с его ограниченным объемом не представляется целесообразным.
Невероятные технологические трудности создания EUV-литографа привели к тому, что даже США и Япония, стартовав в этой гонке первыми, не смогли довести свои EUV-программы до конкурентного продукта и ограничились лишь отдельными компонентами для ASML.
«Причиной их неудачи, и, в противовес, успеха ASML, на наш взгляд, является то, что ASML смогла интегрировать в своем продукте лучшие мировые достижения по всем основным компонентам, — продолжает Чхало. — Этого они достигли путем беспрецедентной открытости проекта. На основании этого можно сделать вывод, что и в технологическом смысле одной стране маловероятно повторить проект ASML».
Поэтому автору очевидно, что для отечественной программы необходим альтернативный подход к решению проблемы высокопроизводительной рентгеновской литографии, обеспечивающий сопоставимые технические характеристики и при этом делающий эту технологию более доступной по цене оборудования и стоимости эксплуатации. В случае реализации этой концепции литографы будут востребованы не только в РФ, но и зарубежом, так как они станут доступными для компаний, не входящих в 5-топ.
Литография в России
Напомним, из-за санкций в Россию не ввозят оборудование для литографии. Так что собственное производство — важный шаг на пути к технологическому суверенитету.
Производство российского оборудования для выпуска чипов с топологией 350 нм начнется в 2024 г., а 130 нм — в 2026 г. Такие амбициозные планы озвучивал замглавы Минпромторга Василий Шпак. На сегодняшний день такую литографию выпускают только две компании в мире — голландская ASML и японская Nikon.
После 2026 г. в России начнется сравнительно крупное производство лазеров для литографии, которые будут использоваться для выпуска микросхем. Планируется сборка как минимум пяти таких лазеров в год. Разработка идет полным ходом: тестовые испытания в составе литографа назначены на 2025 г.
За разработку лазера отвечала ГК «Лассард». Проводить тестирование будут сотрудники «Зеленоградского нанотехнологического центра» (ЗНТЦ), а сам лазер будет использоваться в составе литографа, первоначально рассчитанного на топологию 350 нм. Новый лазер «прокачает» его до 130 нм. Для сравнения, самый современный техпроцесс, по которому в 2024 г. производятся различные микросхемы, в том числе и центральные процессоры — это 3 нм. Эти нормы используются на фабриках TSMC для производства чипов Apple.
В своем оригинальном исполнении он предназначен для выпуска чипов по топологии 350 нм. Это не самый современный техпроцесс – пик его актуальности пришелся на 1995-1996 гг. Чипы размером 350 нанометров хоть и считаются большеразмерными чипами, но до сих пор используются во многих отраслях, в том числе в автопроме, энергетике и телекоммуникациях.
CNews писал о проблемах, связанных с исполнением таких проектов. Во-первых, бюджеты. Власти потратят 100 млрд руб. на возведение в России индустрии по выпуску оборудования для производства микросхем. Деньги будут выделяться в течение трех лет. Для сравнения, только за 2022 г. ASML, крупнейший вендор такой аппаратуры в мире, вложил в НИОКР втрое больше денег. К тому же в России почти нет нужных специалистов, а тем, кого удалось найти, уже около 80 лет.
«У предприятий не хватает ни сотрудников, способных просчитать технологический процесс работы таких установок, ни ученых, обладающих достаточными знаниями в области, например, практической физики», — отмечал заместитель заведующего кафедрой микро- и наноэлектроники МФТИ Евгений Горнев.
Опыт ASML
Чхало убежден, что попытка копирования литографа компании ASML не приведет к успеху. Этот вывод относится как к техническим, так и экономическим проблемам, стоящим на пути построения литографа на 13,5 нм, продолжает он.
«В целом, развиваемая ASML концепция привела к огромной стоимости оборудования, — отмечает Чхало. — По разным данным, цена выпускаемых в настоящее время литографов серии NXE:3400C и NXE:3600D превышает 300 миллионов евро, а нового поколения EXE:5000 с разрешением 8 нм в разы больше».
Тем не менее, топ-менеджеры компаний TSMC, Samsung и Intel подтверждают, что, несмотря на все эти затраты, EUV-литография экономически эффективна, отмечается в документе. «Однако надо учитывать, что эта эффективность обусловлена гигантским рынком чипов, занимаемым этими компаниями, по сути, монополистами, — следует далее. — При уменьшении рынка эта эффективность резко упадет. Косвенным подтверждением этого вывода является и то, что, кроме этих гигантов, а также американской Micron Technology и корейской SK Hynix Korea, входящих в 5-топ производителей чипов в мире, такое оборудование больше никто не приобрел и согласно прогнозам ASML на ближайшее будущее и не планирует».
Поэтому Чхало приходит к выводу, что с экономической точки зрения повторять проект ASML для России бессмысленно. Так как при мелкосерийном производстве она может и превысить стоимость спецтехники, для которой этот чип производился.
Технически повторить разработку ASML представляется маловероятным, да и использование подобного оборудования для отечественного рынка чипов с его ограниченным объемом не представляется целесообразным.
Невероятные технологические трудности создания EUV-литографа привели к тому, что даже США и Япония, стартовав в этой гонке первыми, не смогли довести свои EUV-программы до конкурентного продукта и ограничились лишь отдельными компонентами для ASML.
«Причиной их неудачи, и, в противовес, успеха ASML, на наш взгляд, является то, что ASML смогла интегрировать в своем продукте лучшие мировые достижения по всем основным компонентам, — продолжает Чхало. — Этого они достигли путем беспрецедентной открытости проекта. На основании этого можно сделать вывод, что и в технологическом смысле одной стране маловероятно повторить проект ASML».
Поэтому автору очевидно, что для отечественной программы необходим альтернативный подход к решению проблемы высокопроизводительной рентгеновской литографии, обеспечивающий сопоставимые технические характеристики и при этом делающий эту технологию более доступной по цене оборудования и стоимости эксплуатации. В случае реализации этой концепции литографы будут востребованы не только в РФ, но и зарубежом, так как они станут доступными для компаний, не входящих в 5-топ.
Литография в России
Напомним, из-за санкций в Россию не ввозят оборудование для литографии. Так что собственное производство — важный шаг на пути к технологическому суверенитету.
Производство российского оборудования для выпуска чипов с топологией 350 нм начнется в 2024 г., а 130 нм — в 2026 г. Такие амбициозные планы озвучивал замглавы Минпромторга Василий Шпак. На сегодняшний день такую литографию выпускают только две компании в мире — голландская ASML и японская Nikon.
После 2026 г. в России начнется сравнительно крупное производство лазеров для литографии, которые будут использоваться для выпуска микросхем. Планируется сборка как минимум пяти таких лазеров в год. Разработка идет полным ходом: тестовые испытания в составе литографа назначены на 2025 г.
За разработку лазера отвечала ГК «Лассард». Проводить тестирование будут сотрудники «Зеленоградского нанотехнологического центра» (ЗНТЦ), а сам лазер будет использоваться в составе литографа, первоначально рассчитанного на топологию 350 нм. Новый лазер «прокачает» его до 130 нм. Для сравнения, самый современный техпроцесс, по которому в 2024 г. производятся различные микросхемы, в том числе и центральные процессоры — это 3 нм. Эти нормы используются на фабриках TSMC для производства чипов Apple.
В своем оригинальном исполнении он предназначен для выпуска чипов по топологии 350 нм. Это не самый современный техпроцесс – пик его актуальности пришелся на 1995-1996 гг. Чипы размером 350 нанометров хоть и считаются большеразмерными чипами, но до сих пор используются во многих отраслях, в том числе в автопроме, энергетике и телекоммуникациях.
CNews писал о проблемах, связанных с исполнением таких проектов. Во-первых, бюджеты. Власти потратят 100 млрд руб. на возведение в России индустрии по выпуску оборудования для производства микросхем. Деньги будут выделяться в течение трех лет. Для сравнения, только за 2022 г. ASML, крупнейший вендор такой аппаратуры в мире, вложил в НИОКР втрое больше денег. К тому же в России почти нет нужных специалистов, а тем, кого удалось найти, уже около 80 лет.
«У предприятий не хватает ни сотрудников, способных просчитать технологический процесс работы таких установок, ни ученых, обладающих достаточными знаниями в области, например, практической физики», — отмечал заместитель заведующего кафедрой микро- и наноэлектроники МФТИ Евгений Горнев.
-Ого, у тебя есть литограф?
-Лучше! У меня есть рисунок о том как я буду создавать литограф!
-Лучше! У меня есть рисунок о том как я буду создавать литограф!
Сырский лбит рассказать мне об украинских литографах, после ночи анальной любви.
Кирилл Буданка.
Ох, сколько бабла бюджетного можно распилить! А там глядишь повестка сменится и забудут, как забыли про нанотехнологии и Сколково.
Опять "гибкий планшет Чубайса"?
>Росияне впервые представили отечественный литограф - передовой комплекс, на который потратили более трех триллионов рублей готов к массовому выпуску росийских микрочипов
>"Комплекс состоит из двух инструментов, которые позволяют профессионалу изготавливать кремниевые микрочипы по техпроцессам вплоть до 0.5 см."
>"Комплекс состоит из двух инструментов, которые позволяют профессионалу изготавливать кремниевые микрочипы по техпроцессам вплоть до 0.5 см."
>РАН предлагает ряд инноваций. Например, длина волны 11,2 нм. Это должно привести к увеличению разрешающей способности установки на 20%
Нидерландцы ну тупые, сразу нормальный литограф сделать не догадались.
Смартфоны, емобили и прочие нанотехнологии уже в прошлом, сейчас в моде литография.
Ну, учитывая недавнюю новость про воровство с ASML - звучит правдоподобно, но слишком хорошо, чтобы быть правдой
они там уже на 1.6 нм переходют
Новый планшет Анатолия Чубайса настолько гибкий, что выгибается аж до Израиля.
Я лакец, я дагестанец, я чеченец, ингуш, русский, татарин, еврей, мордвин, осетин …
так приятно смотреть на поросячьи ужимки хохлов
>литографа компании ASML не приведет к успеху
ясен хуй, там легаси говно мамонта, с нуля проще и дешевле, с другой стороны вговнемоченые почему еще процессоры не выращивают?
Жду уголовное дело на Толяна Ваучера, он же Моисей Израилевич. Уже пора.
>они там уже на 1.6 нм переходют
И что это даст кроме большего нагрева? И 20нм вполне достаточно.
Я:
Хакас
Удмурт
Ижорец
Лакец
Осетин
Наоборот же, нагрев меньше. Другой вопрос в том, что эти 1,6 нм придуманы маркетологами для наёбывания лохов. Истина в том, что 3 нм - это технологический предел, после которого начинает проявляться эффект квантового туннелирования.
Зачем нам литография, если ее можно купить у сомалийцев? Я все еще не могу сломать ё-мобиль на аккумуляторах от лиотех, который строил сам чубайс из израиля. А тут уже литографию делают! Немыслимо! Нужна еще машинка для создания клонов и населения и машинка делающая квартиры не за 10 мультов, а за 1, хотя бы. Может Трампфд сделает такую? Или Илонец Масковец?
Как думаете, братаны ципсолахтаны? Что будет у нас после Атомска?
Как думаете, братаны ципсолахтаны? Что будет у нас после Атомска?
>Наоборот же, нагрев меньше
С чего это? Меньше площадь, больше сопротивление, больше нагрев
>научно-исследовательской работы (НИР) с элементами опытно-конструкторской (ОКР). Планируется создать критические технологии рентгеновской литографии, выявить основные проблемы по всем ключевым технологиям и выработать предложения по коррекции технических решений.
ну если вдруг эта хрень оказалась нужна для войн,
то русские сделают.
И меньше напряжение. И сила тока.
>о даст кроме большего нагрева
меньшего, долбаеб.
У меня рядом лежат смарты на 15 нм и 5нм.
15нм греется как хохол, а 5нм +- холодный.
>они там уже на 1.6 нм переходют
ебобо даже отдалённо не понимает о чем речь, но своё воткнул
Ну маркетологи же не зря свою зарплату получают.
>Меньше площадь, больше сопротивление
Наоборот, чем меньше атомов тем меньше сопротивление.
Запомните: ничего и никогда не появляется нисфига. Ри-ссср-рф никогда не делали никаких механизмов не закупленных во время сралинской индустриализации, спизженных шпионажем или полученных по репарациям от гермахи. Любой аналоговнет прослеживается. Просто потому, что невозможно вчера ходить в лаптях, а завтра - собирать часы и автомобили. Этих перемог было дофига за 20 лет. Будет как с блохолетом суперджетом после бодреньких отчетов о создании макета прототипа. Скриньте.
Ну почему сразу тупые. Просто у них бизнес: если сразу сделать нормальный то что продавать через десять лет?
>...
> 7 нм. Полноценную работу оборудование может начать в 2028 г.
Неблохо. Быбыло.
>20нм вполне достаточно.
Не, хуй, у меня смартфон 6 нм не тротлит не греется, долго работает. Старый был 28 нм, не хатет.
Сколько сотен раз уже читал про "догоним и перегоним Запад", а воз и ныне там.
Чаю
>В России разработан план
> Россия планирует создать к 2015 году постоянную базу на Луне и отработать транспортную схему для доставки на Землю гелия-3, передает ИТАР-ТАСС
Вот когда сделают, тогда и приходи
Есть диоды, триоды, и паяльник с проводами. Нет, хотим литографию какую-то, как у барена.
Дорожная карта в рф - это что то типа графика по разворовыванию народных средств всякими мразотными жидами и чурками.
> Планируется создать критические технологии рентгеновской литографии
На чём всё и закончится. Денех нет - нет и технологии.
>В России разработан план создания оборудования для создания современных чипов, которое будет дешевле и эффективнее, чем установки сегодняшнего монополиста рынка ASML.
Самолет когда уже?
Так у нидерландцев нещитовый литограф, они ж его не сами сделали, а со всего мира технологий понасобирали, сами бы они его чисто силами нидерландии никогда бы не сделали, поэтому нещитово, а сколько там нанометров всем похуй, это как секс с проституткой, понимаешь? Вот когда русские одобрят и скажут "щитова" вот тогда можно говорить о каких то там нидерландцах и вообще, вторую мировую кто выиграл, нидерландцы чо делали в то время?, то то же, ну и главный вопрос, традиционно риторический, что с литографией у хохлов?
А если серьёзно пидораха никогда в жизни не создаст литограф хоть сколько нибудь технологически современный и конкурентоспособный, потому что как только в закромах пидорах появится какая нибудь ключевая пиздатая технология к литографу, она тут же утечёт к барену, как было с OSCiAL'ом, IPG Photonics и кучей других фич, рождённых пидорашьими кулибиными.
Кроме НООСКОПА, нооскоп нужен, что бы выгрузить в него сознание пынявого и править пидорашками вечно.
>В России написана «дорожная карта»
Пусть сперва научатся писать не англоязычными кальками, чмошники.
Соси молча, плис.
>я литограф, я наноробот, я бпла, я электромобиль, я ручка автомобиля ГАЗ
Зачем ты перечисляешь всё, что запихивал себе в задний проход?
>невозможно вчера ходить в лаптях, а завтра - собирать часы и автомобили
Мурика с Джапаном чьи? Босоногому Тому Сойеру даже лапти были бы радостью.
Со времен СССР так. В космос летали, а народ был нищим. Зато по телевизору сплошная перемога над западом и капитализмом. А потом проиграли жвачке и низкопробным боевичкам и джинсам с кока колой. Потому что даже этого великая сверхдержава производить не могла. ЗАТО ПЕРВЫЕ В КОСМОСЕ И ПЕРЕПРОИЗВОДСТВО НИКОМУ НЕНУЖНОЙ ХУЙНИ НА ЗАВОДАХ
>народ был нищим
Ну хз. Мой дед и батя почему-то говорят, что ты пиздишь.
>которое будет
Когда будет, тогда и приходи.
Так гаввах будет лучшего качества, Старичок Гойдовичек убеждает, что ты "впередипланетывсей" и "так нада", а вокруг оглянешься, одна серость и мракота, становится неясно, что ему "нада" и кому это вообще "нада", тогда под слоем гойды, появляется странное щемящее чувство, такой вот тоски, от того, что что-то неправильно, вот это оно
кек
В отдельные компоненты технологий верю. В возможность скомплектовать в единое работоспособное целое за приемлимые сроки, нет.
Про литограф слышу с 2022
>В России разработан план
А они только разработали план
На базе "Арматы" будут создавать? Вот затейники, снова придумали как спиздить.
«Дорожная карта» создания российского литографа
В России разработали «дорожную карту» создания литографа, который будет дешевле, а в изготовлении проще, чем оборудование нидерландской ASML. Но при этом российская установка будет не менее эффективной. Это следует из «Новой концепции развития высокопроизводительной рентгеновской литографии», подготовленной сотрудником Института физики микроструктур Российской академии наук (ИФМ РАН) Николаем Чхало, которая оказалась в распоряжении CNews.
Реализация «дорожной карты» позволит в разумные сроки создать в стране собственные современные нанолитографические установки, отмечается в документе.
ИФМ РАН предлагает уменьшить рабочую длины волны литографа с 13,5 до 11,2 нм. Ожидается, что этот подход снизит затраты как на изготовление вакуумных элементов и систем, и литографа в целом, так и на стоимость эксплуатации.
Инновационная концепция
Для создания отечественного литографа, не уступающего ASML, ИФМ РАН предлагает ряд инноваций. Например, длина волны 11,2 нм. Это должно привести к увеличению разрешающей способности установки на 20% (разрешающая способность определяется, как минимальный элемент, воспроизведенный в слое фоторезиста).
«Это позволит уменьшить габаритные размеры и существенно упростить изготовление зеркал, а также заметно удешевить производство объектива, — отмечает Чхало. — В российской установке планируется заменить оловянный лазерно-плазменный источник на ксеноновый. Это должно на порядки уменьшить загрязнения оптических элементов продуктами разлета материала источника. В разы возрастет время жизни дорогостоящих коллектора и pellicle (свободновисящих многослойных пленок для защиты масок), а значит и масок».
Переход к длине волны 11,2 нм в потенциале открывает возможность использования резистов на основе кремния, в частности кремнийорганических. Наибольшей чувствительностью при высоких параметрах передачи рисунка в EUV-литографии обладают органические резисты, следует из концепции. «Можно ожидать, что увеличение доли кремния в резисте приведет к заметному увеличению эффективности резиста на длине волны 11,2 нм по сравнению с 13,5 нм», — подчеркивает Чхало.
Сравнение российского и литографа ASML
В таблице (на второй пикче - ОП) приводится сравнение основных параметров литографа TWINSCAN NXE:3600D производства ASMLс ожидаемыми параметрами литографа, разрабатываемого в ИФМ РАН.
Как видно из таблицы, при средней мощности лазера 3,6 кВт ожидаемая производительность на длине волны 11,2 нм будет меньше примерно в 2,7 раза, чем у ASML-литографа.
«Для фабрик, у которых рынок продукции меньше, чем у 5-топ компаний, этой величины вполне достаточно, с учетом того что из всех слоев на чипе рентгеновская литография используется только при формировании нескольких критических слоев, — отмечается в документе. — —Таким образом, успешная реализация данной концепции позволит достичь целей повышения доступности рентгеновской литографии для пользователей без ущерба разрешающей способности».
Работа в три этапа
По аналогии с опытом развития мировой EUV-литографии реализация предложенной концепции предполагает три этапа, приводит Чхало.
Первый этап состоит из научно-исследовательской работы (НИР) с элементами опытно-конструкторской (ОКР). Планируется создать критические технологии рентгеновской литографии, выявить основные проблемы по всем ключевым технологиям и выработать предложения по коррекции технических решений.
Помимо этого, планируется сформировать кооперационные связи и список оборудования, необходимого для решения задач второго этапа. Создать экспериментальный образец литографа для тестирования всех элементов в реальном технологическом процессе, разработать резисты и отработать технологии формирования наноструктур методом рентгеновской литографии.
Среди целей второго этапа заявлено создание опытного образца высокопроизводительного литографа с шестизеркальным проекционным объективом, мультикиловаттной лазерной системой, системой сканирования для пластин 200/300 мм. В том числе, планируется интеграция рентгеновской литографии в высокопроизводительную линейку производства передовых отечественных чипов, создание кооперационных цепочек для производства основных элементов и систем литографа.
Результатами этапа станут опытный образец литографа с производительностью более 60 пластин 200 мм в час. Также планируется интеграция рентгеновской литографии в технологическую цепочку производства чипов на передовой отечественной фабрике, позволяющая использовать эту технологию при производстве критических, с минимальными топологическими нормами, слоев, а также формулирование технического задания и технико-экономического обоснования на опытный образец литографа для индустриальных применений.
Третий этап предполагает создание литографа, адаптированного к эксплуатации на фабрике, с производительностью пластин диаметром 300 мм более 60 в час, организацию серийного производства литографов в России.
Сроки прохождения этапов в документе не названы.
О начале работы над литографом в ИПФ РАН CNews сообщал в октябре 2022 г. Предполагалось, что установка сможет выпускать чипы по топологии 7 нм. Полноценную работу оборудование может начать в 2028 г. В РАН ожидают, что российский литограф будет в 1,5-2 раза эффективнее того, что создан ASML.
https://www.cnews.ru/news/top/2024-12-13_v_rossii_razrabotali_dorozhnuyu