Как поясняет Nikkei Asian Review, японская компания Dai Nippon Printing разработала материал для изготовления специализированных матриц, позволяющих делать оттиск на поверхности кремниевых пластин, формируя рисунок для дальнейшего травления и превращения крохотного куска кремния в полупроводниковый чип. В 2027 году DNP намеревается наладить массовый выпуск таких расходных материалов, которые в комбинации с профильным оборудованием Canon для нанопечати позволят создавать 1,4-нм чипы.
При этом расходы электроэнергии на изготовление чипа удастся снизить на 90 % по сравнению с традиционным литографическим оборудованием, использующим мощные лазеры. Строго говоря, и сама установка для нанопечати стоит около $6,4 млн, что в десятки раз меньше стоимости передового сканера ASML для изготовления 2-нм и более совершенной продукции. Именно традиционная литография, по данным японских источников, определяет от 30 до 50 % себестоимости чипов.
>>327675569 (OP) Да как бы и так очевидно, что тот пердолинг с ловлей капель олова для извлечения сверхжесткого УФ -хуйня тупиковая оверсложная. Тоже самое что из дерева формулу 1 собирать, реально, если пердолиться и композиты всякие собирать, но нахуй оно надо то?
>>327678879 Я очень рад, но Тайвань например что то не спешит продавать чин чонгам свои станки, думаешь Японцы, которые ходят под США побегут Винни Маоц Це Пуху продавать свои станки?
>>327675569 (OP) Как сделают тогда и приноси, а пока что смахивает на очередной пиздеж по типу новостей о разработках новых супер-пупер батарей с высокой емкостью и огромным циклом перезарядок. Уже лет 10 подобную хуйню читаю, а на деле прогресса почти ноль.
>>327675569 (OP) Ну и чё? Кому не похуй? Вот реально скажите че это уменьшение даёт. Ну типо с 50 до 10 там прогресс ок. Но с 10 и дальше прогресс минимальный. Особенно меньше 5 когда стало уже похуй. Ну будет 1.4 и что. +10-15% прироста будет же. Будет прогресс когда на что-то другое перейдут вообще
Эта новость действительно основывается на реальных событиях и технических анонсах, сделанных компаниями Dai Nippon Printing (DNP) и Canon. Однако, чтобы понять реальный расклад сил, нужно отделить маркетинговые заявления от суровой инженерной реальности.
Ниже подробный анализ правдоподобности и влияния этой технологии на гигантов индустрии.
---
### 1. Что это за технология? Речь идет о наноимпринтной литографии (Nanoimprint Lithography — NIL). В отличие от традиционной литографии (которую делает ASML), где свет проходит через линзы и проецирует рисунок на пластину, NIL работает по принципу механического штампа. Пресс-форма (матрица) с нанометровым рисунком физически вдавливается в резист на кремниевой пластине.
### 2. Насколько это правдоподобно?
Что правда: * Энергоэффективность и цена: Заявления о снижении энергопотребления на 90% и стоимости оборудования в 10 раз — абсолютная правда. EUV-литография (технология ASML) требует колоссального количества энергии для генерации плазмы и экстремального ультрафиолета. NIL — это просто механический процесс (штамповка) плюс затвердевание полимера. Это дешево и просто с точки зрения физики. * Техническая возможность 1.4 нм: DNP действительно научилась делать шаблоны (штампы) с таким разрешением.
В чем подвох (о чем не говорят в заголовках): У NIL есть фундаментальные проблемы, которые индустрия пытается решить уже 15 лет: 1. Дефекты (Пыль): Поскольку штамп касается пластины, любая, даже самая микроскопическая пылинка может повредить и сам дорогой штамп, и чип. В оптической литографии (ASML) нет контакта, поэтому пыль не так критична. 2. Точность наложения (Overlay): При печати чипов нужно накладывать десятки слоев друг на друга с идеальной точностью. При механическом давлении материалы могут деформироваться. Добиться точности совмещения слоев на уровне 1.4 нм при штамповке — адски сложная задача. 3. Скорость (Throughput): EUV-сканеры ASML обрабатывают пластины очень быстро. NIL пока работает медленнее, что снижает экономическую выгоду при массовом производстве.
Вердикт по правдоподобности: Новость правдива технически (прототипы есть), но слишком оптимистична насчет сроков массового применения для топовых процессоров (1.4 нм) в 2027 году.
---
### 3. Угроза для ASML
Для ASML это потенциальная угроза в будущем, но не смертельная сейчас.
* Монополия ASML: Сейчас ASML — единственный в мире производитель EUV-машин для чипов <7 нм (iPhone, NVIDIA H100 и т.д.). * Ниша для Canon/DNP: Скорее всего, технология NIL сначала пойдет не в производство процессоров (CPU/GPU), а в производство памяти (3D NAND), где требования к точности чуть ниже, а чувствительность к цене — выше. * Сценарий риска: Если Canon решит проблемы с дефектами, они могут откусить у ASML кусок рынка бюджетных и среднебюджетных чипов. Но заменить ASML в производстве топовых процессоров (где важна идеальная чистота и точность) к 2027 году будет крайне сложно.
Резюме: ASML не потеряет рынок завтра, но у них впервые за долгое время появляется теоретический конкурент с совершенно другим подходом к физике процесса.
---
### 4. Угроза для TSMC
Для TSMC это не угроза, а возможность, но с геополитическим нюансом.
* Почему не угроза: TSMC — это завод (Foundry). Они не делают станки, они их покупают. Если машины Canon окажутся дешевле и эффективнее ASML, TSMC просто купит их и увеличит свою прибыль. Для них это благо. * **Геополитический нюанс (Rapidus):** Угроза для TSMC исходит не от технологии, а от того, *кто* ее использует. Япония сейчас активно возрождает свою полупроводниковую индустрию (компания **Rapidus**). Если японский консорциум (DNP + Canon + Rapidus) сможет производить 2-нм и 1.4-нм чипы дешевле, чем TSMC (из-за дешевого оборудования), то клиенты вроде Apple или NVIDIA могут задуматься о смене поставщика.
**Резюме:** Сама технология для TSMC безопасна. Опасность представляет сценарий, при котором Япония создает замкнутый цикл производства (свои станки + свои заводы) и начинает демпинговать цены, отбирая клиентов у Тайваня.
### Итог
Новость выглядит как "прорыв", но в индустрии чипов от лабораторного образца до массовой серии проходит 5-10 лет. * **Реальность:** Это отличная технология для удешевления производства памяти и менее критичных чипов. * **Хайп:** Замена EUV (ASML) на 1.4 нм к 2027 году маловероятна из-за проблем с дефектами при контактной печати.
ASML стоит напрячься, но паниковать рано. TSMC будет внимательно наблюдать, чтобы в случае успеха технологии просто внедрить ее у себя.
>>327675569 (OP) Для процессоров сложно слажна дохуя слоёв. А вот для памяти это тема. Если не 1,4 нм, а хотя бы в 20 раз больше но по норм цене будет заебумба SLC ssd.
Как поясняет Nikkei Asian Review, японская компания Dai Nippon Printing разработала материал для изготовления специализированных матриц, позволяющих делать оттиск на поверхности кремниевых пластин, формируя рисунок для дальнейшего травления и превращения крохотного куска кремния в полупроводниковый чип. В 2027 году DNP намеревается наладить массовый выпуск таких расходных материалов, которые в комбинации с профильным оборудованием Canon для нанопечати позволят создавать 1,4-нм чипы.
При этом расходы электроэнергии на изготовление чипа удастся снизить на 90 % по сравнению с традиционным литографическим оборудованием, использующим мощные лазеры. Строго говоря, и сама установка для нанопечати стоит около $6,4 млн, что в десятки раз меньше стоимости передового сканера ASML для изготовления 2-нм и более совершенной продукции. Именно традиционная литография, по данным японских источников, определяет от 30 до 50 % себестоимости чипов.