В Китае сообщили о создании собственной установки экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV). До этого страна из-за санкций использовала лишь DUV-оборудование, позволяющее выпускать чипы не тоньше 5 нм. Новая разработка, созданная в лаборатории Шэньчжэня при участии инженеров Huawei и бывших специалистов ASML, открывает путь к 3–2 нм техпроцессам. Проект курируется на государственном уровне, однако массовое производство ожидается не ранее 2028–2030 годов. Мнение
>>327780097 (OP) В последнее время столько хрюков про ВЕЛИКИЙ ЛИДЕР КАЛПАРТИЯ или ЧУНГОК ХОРОШО ЖИТЬ В КИТАЙ че за хуйня, кто сюда пустил этих чухлидце из центра формирования положительного мнения о узкоглазых карликах?
Мнение