К сожалению, значительная часть сохранённых до 2024 г. изображений и видео была потеряна (подробности случившегося). Мы призываем всех неравнодушных помочь нам с восстановлением утраченного контента!
Сортировка: за
Сохранен
511
17 апреля 2024
Сохранен
384
22 декабря 2025
Сохранен
167
13 декабря 2022
Сохранен
167
1 июля 2021
Активный
161
В России сделали 150нм литограф, собранный полностью внутри страны. Литографов хотя бы с таким техпр — В России сделали 150нм литограф, собранный полностью внутри страны. Литографов хотя бы с таким техпроцессом, произведенных полностью внутри страны, нет в 95% стран мира В России разработали собственную установку электронно-лучевой литографии с техпроцессом 150 нм [уровень Pentium 4, выпускавшихся ~в 2001 году]. Оборудование Зеленоградского нанотехнологического центра позволяет напрямую формировать рисунок на кремниевых подложках без дорогостоящих фотошаблонов, а также изготавливать сами фотошаблоны. Два опытных образца уже проходят комплексные испытания. Такие установки особенно полезны для прототипирования, научных исследований и выпуска небольших партий специализированных микросхем — например, для космической и оборонной отраслей. Однако для массового производства электронно-лучевая литография слишком медленная, а дальнейшее развитие технологии потребует собственной компонентной базы, качественных резистов, точной метрологии и систем управления электронным пучком. Также, по словам генерального директора ЗНТЦАнатолия Ковалева, установка будет перевезена за 2 тыс. км от Зеленограда. Официально пункт назначения и причины такого решения не раскрываются. [Возможно, удалённую площадку выбрали из соображений безопасности: Москва и Подмосковье регулярно подвергаются атакам украинских беспилотников, поэтому уникальное опытное оборудование могли решить разместить подальше от потенциальной зоны риска.]
вчера 17:19
Активный
137
НИИЭТ начинает серийное производство нового микроконтроллера 32-разрядное устройство К1921ВГ11Т вып — НИИЭТ начинает серийное производство нового микроконтроллера 32-разрядное устройство К1921ВГ11Т выполнено на базе открытой архитектуры RISC-V. Начало серийных поставок изделия запланировано на IV квартал 2026 года Разработка нового типономинала стала результатом совместной работы специалистов НИИЭТ и одного из предприятий транспортной отрасли, для которой компактность электронной компонентной базы имеет принципиальное значение Перед разработчиками стояла задача сохранить вычислительные возможности существующего микроконтроллера, одновременно уменьшив его габариты. Вместо создания нового кристалла специалисты НИИЭТ использовали уже освоенный чип, разместив его в пластиковом корпусе LQFP-100, который ранее применялся для микроконтроллера К1921ВГ3Т. При этом часть функций, не востребованных в конкретном проекте, не выводилась на внешние контакты. По согласованию с заказчиком было принято решение отказаться от доступа к контроллеру внешней памяти (объема встроенной памяти достаточно для широкого круга задач), а также от интерфейсов Ethernet, USB и ряда других каналов ввода-вывода Такой подход позволил полностью сохранить ключевые функциональные возможности микроконтроллера, включая средства управления электродвигателями, при значительном уменьшении масса-габаритных характеристик, одновременно сократив сроки разработки и вывода изделия на рынок
сегодня 5:01
Сохранен
68
1 мая 19:07
Сохранен
68
27 декабря 2025
Сохранен
65
Китай создал свой EUV-литограф, но он не работает — По информации разведки, в Китае якобы "построили" прототип нкоего передового фотолитографа, работающего с экстремальным ультрафиолетовым излучением (EUV). Он создан командой инженеров-предателей ASML, которые провели нещаконный реверс-инжиниринг литографов голландской компании. На сегодняшний день китайская установка якобы "запущена и успешно генерирует экстремальное ультрафиолетовое излучение", но производить микрочипы она не может. По сообщениям осведомлённых источников, приём на работу бывших сотрудников ASML в Китае сопровождался беспрецедентными мерами секретности и выдачей фальшивых удостоверений личности. В команду вошли недавно вышедшие на пенсию бывшие инженеры и учёные ASML китайского происхождения. По словам надежных источников, в настоящее время команда из примерно 100 предателей занимается незаконным обратным проектированием компонентов как EUV, так и DUV литографических машин. Голландская разведка утверждает, что Китай «использовал обширные программы шпионажа в своих попытках получить передовые технологии и знания из западных стран», включая вербовку «западных учёных и сотрудников высокотехнологичных компаний». По словам источников, именно ветераны ASML сделали возможным прорыв в «Китайском Манхэттенском проекте». Без их глубоких знаний технологии реверс-инжиниринг оборудования был бы практически невозможен. Для сокрытия своих преступлений используются цепочки компаний-посредников. По слухам, в китайском прототипе используются компоненты японских компаний Nikon и Canon, на экспорт которых распространяются ограничения. Обе компании отказались от комментариев. Сам проект создания литографического EUV-сканера находится под управлением коммунистической партии китая. Системы EUV компании ASML в настоящее время доступны только союзникам США, включая Тайвань, Южную Корею и Японию. https://www.engadget.com/big-tech/china-reportedly-has-a-prototype-euv-machine-built-by-ex-asml-employees-235833756.html
20 декабря 2025
Сохранен
48
вчера 10:29
Сохранен
34
1 мая 2022
Сохранен
31
24 мая 2022
Сохранен
1
5 июля 2022